磁控离子溅射仪
产品介绍:
离子溅射仪或是喷金仪是一种利用真空镀膜技术开发研制成高科技产品,作为扫描电镜所需要的一款制样仪器,可以配合扫描电子显微镜很方便的观测试样的微观形貌,从而提高试样的导电性和导热性。该仪器为全闭环真空设计配有全量程皮拉尼真空计等多个传感器实时监控运行状态,保证仪器安全稳定运行。自动磁控离子溅射仪采用高性能旋真空泵快速获得<1Pa的真空环境,高精度的溅射电源采用恒流控制来保证高精细的膜层质量。同时平面磁控测射阴极减少等离子体对试样表面的轰击和热效应,高性能的平面磁控溅射阴极可实现多种靶材的选择 (Au、Pt、Ag、Pd等),高精度的纳米涂层为纳米级别,可满足现代分析实验要求。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。
应用领域:
光学领域:中频闭场非平衡磁控溅射技术应用于光学薄膜(如减反射膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃;
微电子领域:用于沉积具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜,如低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。
高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜等领域:磁控溅射技术在这些领域的研究中发挥着重要作用;