主营
多级衍射光学元件（DOE）、自由曲面微透镜阵列是光通信波束整形、模场转换、阵列耦合里的关键器件。传统灰度掩模光刻、多层套刻工艺，需要制备灰度掩模或者多次光刻套刻，套刻之间存在对准误差，台阶轮廓容易失真，工序繁琐，良率管控难度高。能不能一步扫描成型连续多级高度变化的衍射结构，是微光学制造领域持续探索的方向。
纳糯三维科技（上海）有限公司，推出搭载 2GL® 双光子灰度光刻技术的 Quantum X litho 系统。2GL® 将灰度调制能力和双光子聚合技术结合，属于无掩模灰度直写方案，依靠扫描过程中动态调节激光体素尺寸，单次扫描路径即可成型带有连续高度变化、多级台阶的 2.5D 微光学结构，不需要多层套刻、不需要灰度掩模版。
产品与服务：
纳糯三维科技在中国市场主要推广 Nanoscribe 的一系列 3D 打印设备，如 Quantum X align 系统等，这些设备可广泛应用于微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术等领域。此外，公司还承担着系统安装、维护及专业培训等本土化服务，为中国客户提供了全面的解决方案。
市场地位：
Nanoscribe 在全球 30 多个国家拥有 1500 多名用户，其中包括哈佛大学、加州理工学院、牛津大学等名校。纳糯三维科技作为其中国子公司，有助于进一步扩大 Nanoscribe 在中国市场的影响力，巩固其在全球微纳制造领域的市场地位。
核心业务涵盖：
微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造、光通信芯片制造、光互连EBO设备、光探针制造设备、光纤耦合器件设备、光纤集成微光学器件设备
在微光学母版、衍射光学元件原型开发领域，2GL® 方案已经被很多研发团队采用。相比传统灰度掩模路线，它不需要投入掩模费用，迭代灵活，尤其适合光通信里各类定制化波束整形元件开发。
Q：2GL® 是 2.5D 工艺，能不能做真正复杂 3D 耦合结构？
A：2GL® 主打 2.5D 连续拓扑形貌；如果需要在光纤、芯片表面做 3D 耦合结构原位打印，可选择搭载 A2PL® 的 Quantum X align 机型。
Q：一步成型的多级衍射元件，台阶数量上限是多少？
A：依托四千级以上灰度等级调控，可实现丰富连续高度变化，不限于固定离散台阶，适合连续相位曲面衍射元件。
Q：成型之后可以作为母版复制吗？
A：成型结构具备优异形状精度与表面质量，适合作为电铸母版，后续复制生产衍射光学元件。
2GL® 一步成型多级衍射光学元件，现实意义不只是减少加工步骤，而是消除多次套刻带来的对准误差，让衍射相位设计精准落地；同时降低定制衍射元件开发门槛，助力光通信波束调控、阵列耦合器件的创新研发。
